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磁控溅射中的靶材分为金属合金靶和陶瓷靶,那像一些金属氧化物的靶材为什么叫陶瓷靶呢?

2024-09-25 22:58:54 | 搜视网

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磁控溅射中的靶材分为金属合金靶和陶瓷靶,那像一些金属氧化物的靶材为什么叫陶瓷靶呢?

磁控溅射中的靶材分为金属合金靶和陶瓷靶,那像一些金属氧化物的靶材为什么叫陶瓷靶呢?

在磁控溅射中,靶材的分类不是根据其材料的类型,而是根据其物理结构和性质。金属合金靶材通常具有晶粒较大、密度较高、结构紧密等特点,适用于制备多种金属薄膜。陶瓷靶材则具有晶粒细小、密度相对较低、化学稳定性好等特点,适用于制备一些氧化物、氮化物等复杂材料的薄膜。
可以说,金属氧化物靶材实际上是一种特殊的陶瓷靶材,因为它们通常具有与传统陶瓷类似的物理性质和结构。因此,金属氧化物靶材也被归类为陶瓷靶材之一。

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陶瓷靶材在磁控溅射时会出现哪些问题?

陶瓷靶材在磁控溅射时会出现以下问题:
1. 靶材开裂:陶瓷靶材因其脆性,容易在溅射过程中产生裂纹,严重时甚至会导致靶材碎裂。
2. 背靶脱靶:由于陶瓷靶材与基底结合不牢固,磁控溅射时背靶很容易脱离基底,导致溅射效率下降并且浪费靶材。
为了防止陶瓷靶材的开裂和背靶脱靶,可以采取以下措施:
1. 降低溅射功率:可以通过降低溅射功率来减缓靶材的受热速率,从而减少靶材的裂纹和断裂。
2. 使用较小的靶材:使用较小的陶瓷靶材可以降低靶材之间的应力,减少靶材开裂的可能性。
3. 选择合适的溅射气体:选择合适的气体可以减少靶材的热应力,并且可以使得靶材表面形成均匀的氧化层,从而增强靶材的稳定性。
4. 使用背靶固定装置:使用背靶固定装置可以保持背靶与基底的结合牢固,减少背靶脱靶的风险。

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在一般的磁控溅射过程中,溅射靶材的温度会达到多高?且溅射腔室内部,靠近基片传输的位置,温度会有多高

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溅射靶材的温度取决于能量的高低,举例:-1气压,功率5KW,偏压0。靶材表面温度为200度左右,基片温度不会高于100度~如果上升到10Kw,靶材表面温度会接近400度,基片会达到150度左右,我说的基片距离靶材有10厘米左右~
此时热量为热辐射传热,离靶材远的地方辐射相对小,温度就低一点~

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